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英飛凌宣布:在300mm氮化鎵生產路線圖方面取得突破!

發表于:2025-07-07 來源:半導體產業網 編輯:

?隨著GaN半導體需求的持續增長,英飛凌正抓住這一趨勢,鞏固其作為GaN市場領先垂直整合制造商(IDM,以下同)的地位。近日,公司宣布其在 300mm晶圓上的可擴展GaN生產已步入正軌。隨著首批樣品將于2025年第四季度向客戶提供,英飛凌有望擴大客戶群體,并進一步鞏固其作為領先氮化鎵巨頭的地位。

英飛凌300mm GaN技術

作為功率系統領域的領導者,英飛凌已經掌握全部三種材料的相關技術:硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)。憑借更高的功率密度、更快的開關速度和更低的功率損耗,氮化鎵半導體可實現更緊湊的設計,從而減少智能手機充電器、工業和人形機器人,以及太陽能逆變器等電子設備的能耗和熱量產生。

英飛凌全面擴大的300mm GaN生產規模將幫助我們更快地為客戶提供更高價值的產品,同時推動實現Si和GaN同類產品的成本持平。在英飛凌宣布突破300mm GaN晶圓技術近一年后,我們很高興看到我們的過渡進程進展順利,并且業界已經認識到英飛凌GaN技術在我們的IDM戰略優勢下所發揮的重要作用。

英飛凌科技氮化鎵業務線負責人Johannes Schoiswohl表示,英飛凌的生產策略主要以 IDM 模式為主,即擁有從設計到制造和銷售最終產品的整個半導體生產流程。公司的內部生產策略是市場上的一個關鍵差異化因素,具有多重優勢,如能提供更高質量的產品、更快的產品上市時間以及出色的設計和開發靈活性。英飛凌致力于為氮化鎵客戶提供支持,并可擴大產能以滿足他們對可靠的GaN電源解決方案的需求。

憑借其技術領先優勢,英飛凌已成為首家在現有大批量生產基礎設施內成功開發出300mm GaN功率晶圓技術的半導體制造商。與現有的 200mm晶圓相比,300mm晶圓上的芯片生產在技術上更加先進,效率也顯著提高,因為更大的晶圓直徑可使芯片生產效率提高 2.3 倍。這些增強的能力,加上英飛凌強大的GaN專家團隊,以及業界最廣泛的知識產權組合,恰好可以滿足基于GaN的功率半導體在工業、汽車、消費、計算和通信等領域快速普及,包括AI系統電源、太陽能逆變器、充電器和適配器以及電機控制系統等。

市場分析師預測,到2030年,GaN在功率應用領域的收入將以每年36%的速度增長,達到約25億美元[1]。英飛凌擁有專門的生產能力和強大的產品組合,去年發布了40多款新型GaN產品,這使其成為尋求高質量GaN解決方案客戶的首選合作伙伴。

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